国产精品成人av在线_欧美日韩天天228页_黄色一级毛片在线视频_日韩AV不卡在线观看五月_国产 欧美 日本 亚洲AI_亚洲女优一区二区等_无码无套少妇毛多69xxx_欧美专区国产拍揄自揄精品_欧美黄色免费极品主播网络_又黄又爽又刺激的视频

    光刻膠（photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料，是光刻工藝中的關(guān)鍵材料，主要應(yīng)用于集成電路和半導(dǎo)體分立器件的細(xì)微圖形加工。

    光刻膠根據(jù)在顯影過程中曝光區(qū)域的去除或保留可分為兩種－正性光刻膠（positive photoresist）和負(fù)性光刻膠（negative photoresist）。

    正性光刻膠之曝光部分發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)會(huì)溶于顯影液，而未曝光部份不溶于顯影液，仍然保留在襯底上，將與掩膜上相同的圖形復(fù)制到襯底上。

正性光刻膠曝光顯影前后膠層的變化